【真空等離子設(shè)備】這些基本過程可分為兩類。一類是導(dǎo)致輕雜質(zhì)(氧、碳等)進入等離子體的機制；另一類是導(dǎo)致重（金屬）雜質(zhì)進入等離子體的機制。至于工作氣體，也經(jīng)歷了入射到壁、再釋回等離子體的過程，一般稱為氣體循環(huán)。
研究方法：
對于等離子體和表面相互作用的研究可分為兩個方面。理論工作主要致力于對一些過程的理解。如對濺射、起泡、單極弧、氣體循環(huán)、邊界層等現(xiàn)象建立相應(yīng)的物理模型，并試圖在物理參量間給出定量關(guān)系。
實驗工作又可分為兩類。【常壓等離子設(shè)備】
一類是聚變堆中的某一過程的模擬，即以單能或多能的粒子或輻射入射到固體表面，測量這些基本過程在不同條件下的粒子產(chǎn)額（即釋出粒子數(shù)比入射粒子數(shù)）。
另一類實驗工作是觀察和研究在受控?zé)岷司圩冄芯垦b置中的表面過程。在這些實驗中，經(jīng)常用引入一些雜質(zhì)或工作氣體的同位素，以及改變固體表面材料等研究方法。
【等離子處理機】在診斷方面，除了常規(guī)的等離子體診斷方法和光譜、質(zhì)譜、激光散射、靜電探針、高速照相以外，還專門發(fā)展了用可調(diào)頻的染料激光得到熒光光譜來測量邊界層的雜質(zhì)原子密度。
另一種被廣泛采用的診斷方法是用表面物理診斷技術(shù)作實地測量。
這種方法系把模擬壁的樣品引入受控聚變實驗裝置內(nèi)，待其接受了等離了體輻射的粒子后,送入與裝置相連的分析室內(nèi),再用解吸、核反應(yīng),以及俄歇譜儀、次級離子譜儀、軟X線出勢譜儀等表面分析儀器測量這些粒子的成分。
【等離子Plasma】控制方法 對受控?zé)岷司圩冄b置中等離子體和表面相互作用的研究目的是對這種作用進行控制，以減少其危害。已提出或已進行試驗的控制方法很多,主要有:
①反應(yīng)室壁和孔闌材料的選擇。
②反應(yīng)室壁處理。例如放電清洗，噴鍍活性金屬。
③偏濾器。偏濾器用磁場來限制等離子體的位置。在附加線圈的電流磁場作用下，在某一磁分界面外的磁力線不閉合，而把等離子體引到一個偏濾室，帶電粒子在此被中性化和抽走。偏濾器可用來減小等離子體和壁的相互作用并避免了固體孔闌。
